一、"N" 或 “W”峰出現(xiàn)的原因
 

　　1、TCD操作，用N2作載氣由于熱傳導率非線性引起；
 

　　2、FID操作時，樣品溶劑電離效率低(如CS2)，或氣流比欠佳時；
 

　　3、ECD操作時，由于檢測器被污染，溶劑峰或待測組分含量較高，或脈沖電源有毛病。
 

　　二、舌頭峰(前延峰)出現(xiàn)的原因
 

　　1、汽化溫度偏低；
 

　　2、載氣流量小：
 

　　3、進樣量大，汽化時間長；
 

　　4、汽化室被污染，樣品有吸附效應；
 

　　5、樣品在柱頭有冷凝或色譜柱被污染；
 

　　6、進樣技術(shù)差(揮發(fā)性組分的進樣速度太慢)；
 

　　7、峰前出現(xiàn)了“鬼”峰。